当前学科:半导体制造技术
  • 题目: 问答题
    简述常规热氧化办法制备SiO2介质薄膜的动力学过程,并说明在什么情况下氧化过程由反应控制或扩散控制。

      答案: <查看本题扣1积分>

      查看答案

      答案不对?请尝试站内搜索


    推荐知识点: