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当前学科:集成电路工艺原理
题目:
判断题
CMP带来的一个显著的质量问题是表面微擦痕。小而难以发现的微擦痕导致淀积的金属中存在隐藏区,可能引起同一层金属之间的断路。
A . 正确
B . 错误
答案:
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