当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 多选
    解决氧化层中的钠离子沾污的方法有()。

      A . 加强工艺操作
      B . 加强人体和环境卫生
      C . 使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
      D . 采用HCl氧化工艺
      E . 硅片清洗后,要充分烘干,表面无水迹

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