当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 单选
    He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s,这些元素称为()。

      A . 活跃杂质
      B . 快速扩散杂质
      C . 有害杂质
      D . 扩散杂质

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