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当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
单选
He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm
2
/s,这些元素称为()。
A . 活跃杂质
B . 快速扩散杂质
C . 有害杂质
D . 扩散杂质
答案:
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