在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。
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