当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 多选
    下列有关ARC工艺的说法正确的是()。

      A . ARC可以是硅的氮化物
      B . 可用干法刻蚀除去
      C . ARC膜可以通过PVD或者CVD的方法形成
      D . ARC在刻蚀中也可做为掩蔽层
      E . ARC膜也可以通过CVD的方法形成

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