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当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
单选
在热扩散工艺中的预淀积步骤中，砷和锑的扩散温度为（）。
A . 1050～1200℃
B . 900～1050℃
C . 1100～1250℃
D . 1200～1350℃
答案：
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