由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：单选
由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

明确有效而可行的计划包括的内容有哪些？

按顶管管材可将顶管分为()等等。

当鉴别检验包括抽样时，根据品牌、规格、批号、包装等情况进行分类后，按下列哪些方面抽取的样品符合规定。（）

A泄露统计调查对象个人、家庭资料和商业秘密，或者提供、泄露在统计调查中获得的能够识别或者推断单个统计调查对象身份的资料的统计违法行为人，给予（）。

尖锐湿疣在诊断时应依据下列项目，但是不包括（）。

下列风险中，财产保险基本险和综合险都不予以承保的风险是（）。

使用谷物冷却机冷却通风结束后，应立即拆除风管，关闭进风口、门窗、排气口，及时做好防潮、隔热和（）处理。

已知某种光电器件的本征吸收长波限为1.4μm，则该材料的禁带宽度为（）。

协会地方组织有哪些？