当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 单选
    干氧氧化法有一些优点,但同时它的缺点有()。

      A . 生长出的二氧化硅中引入很多可动离子
      B . 氧化的速度慢
      C . 生长的二氧化硅缺陷多
      D . 生长的二氧化硅薄膜钝化效果差

    答案: <查看本题扣1积分>

    查看答案

    答案不对?请尝试站内搜索