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当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
单选
刻蚀要求在整个晶圆上有一个均匀的刻蚀速率,()是在晶圆上由测量刻蚀过程前后特定点的厚度,并计算这些点的刻蚀速率而得到的。
A . 选择性
B . 均匀性
C . 轮廓
D . 刻蚀图案
答案:
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