最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
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