超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：多选
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。
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影响干燥的因素有（）

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