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当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
多选
超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有()。
A . 高分辨率
B . 高灵敏度
C . 精密的套刻对准
D . 大尺寸
E . 低缺陷
答案:
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