当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 单选
    对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。

      A . 离子注入
      B . 溅射
      C . 淀积
      D . 扩散

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