当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 单选
    在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。

      A . 刻蚀
      B . 氧化
      C . 淀积
      D . 光刻

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