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当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
单选
在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。
A . 刻蚀
B . 氧化
C . 淀积
D . 光刻
答案:
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