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当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
题目:
单选
铜与氯形成的化合物挥发能力不好,因而铜的刻蚀无法以化学反应来进行,而必须施以()。
A . 等离子体刻蚀
B . 反应离子刻蚀
C . 湿法刻蚀
D . 溅射刻蚀
答案:
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