正常覆?为上切牙切缘盖过下切牙唇面的垂直距离（）_专业理论_全学科试题题库

当前学科：专业理论

题目：单选
正常覆?为上切牙切缘盖过下切牙唇面的垂直距离（）
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美国某公司于2004年12月1日在美国就某口服药品提出专利申请并被受理，2005年5月9日就同一药品向中国专利局提出专利申请，要求享有优先权并及时提交了相关证明文件。中国专利局于2008年4月1日授予其专利。关于该中国专利，下列哪一选项是正确的？

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