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当前学科：集成电路制造工艺员（三级）
题目：
单选
大硅片上生长的（）的不均匀和各个部位刻蚀速率的不均匀会导致刻蚀图形转移的不均匀性。
A . 薄膜厚度
B . 图形宽度
C . 图形长度
D . 图形间隔
答案：
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