在刻蚀中用到大量的化学气体，通常用氟刻蚀二氧化硅。_集成电路工艺原理_全学科试题题库

当前学科：集成电路工艺原理

题目：判断题
在刻蚀中用到大量的化学气体，通常用氟刻蚀二氧化硅。
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