当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 单选
    钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。

      A . 替位式
      B . 间隙式
      C . 施主
      D . 可能是替位式也可能是间隙式

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