金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）_半导体芯片制造中级工_全学科试题题库

当前学科：半导体芯片制造中级工

题目：判断题
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

绒癌患者最常见的转移部位依次是（）。

矿长每天应审查通风瓦斯日报。

唐代诗人中被称为“诗圣”的是（）诗人？

PPP模式突破了引入企业参与公共基础设施项目组织机构的多种限制，可适用于城市供热等各类市政公用事业及道路、铁路、机场、医院、学校等，这体现了PPP模式的（）。

对耐青霉素的金黄色葡萄球菌感染可以选用的抗生素是哪一组（）

肝硬化大量腹水患者，治疗腹水首选的利尿剂联合方案是（）

下列不是社会工作者服务的角色的有（）。

居住用途房地产的位置优劣，主要是看其（）。

治热痰痹阻心窍之神昏、口噤，首选（）

革兰阳性菌的细胞壁除肽聚糖外，还含有大量的（）