在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。_微电子学_全学科试题题库

当前学科：微电子学

题目：判断题
在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
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