在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。_微电子学_全学科试题题库

当前学科：微电子学

题目：判断题
在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
答案： <查看本题扣1积分>

查看答案

答案不对？请尝试站内搜索

推荐知识点:

消息的开头出现画面描写，有可视可感的效果，能引起读者的好奇。这指的是（）

以下关于开立整存整取存单“起息日”正确描述的是（）。

确定和调整最低工资标准应考虑的因素包括()。A、劳动就业实际情况B、社会平均工资水平C、管理人员的意愿D、员工家属的意愿E、员工的个人意愿

在本市注册开业的劳动密集型小企业法人或其法定代表人，获得经上海市金融服务办公室批准设立的（）发放的小额贷款，可以申请利息补贴。

在易燃、易爆危险场所，电气设备应安装（）的电气设备。

患者，1个月前发热，胸痛，咳嗽，有大量脓痰，经用抗炎治疗不见好转，1周前咳嗽加重，并有呼吸困难。胸部X线片见左胸大片状阴影，经胸穿抽出脓汁，反复穿刺排脓不能控制，其治疗应为（）

测绘法中所称永久性测量标志，是指各等级的三角点、军用控制点、（）重力点、和卫星定位点的木质觇标、钢质觇标和标石标志，以及用于地形测图、工程测量和形变测量的固定标志和海底大地点设施。

治疗黑尿热可采用的正确措施应除外()

曲轴的油道与缸体的主油道不相通。

无眩晕、无听力障碍和肌力完好的患者，出现右上肢指鼻试验不正确和轮替动作差、右下肢跟膝胫试验差，病损部位在（）。