为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。_集成电路制造工艺员（三级）_全学科试题题库

当前学科：集成电路制造工艺员（三级）

题目：单选
为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。
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