A . A.非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜B . 贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜C . 非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜D . 非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同E . 理想的氧化膜厚度为0.2～2μm
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