X荧光分析基体的影响可分两大类，一类是（）引起的，另一类是（），表面结构等造成的。_仪器分析工（高级）_全学科试题题库

当前学科：仪器分析工（高级）

题目：填空题
X荧光分析基体的影响可分两大类，一类是（）引起的，另一类是（），表面结构等造成的。
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