当前学科:集成电路制造工艺员(三级)
  • 题目: 多选
    在半导体工艺中,如果淀积的薄膜不是连续的,存在一些空隙,则()。

      A . 使薄膜的介电常数变大
      B . 可能引入杂质
      C . 可能使薄膜层间短路
      D . 使薄膜介电常数变小
      E . 可能使薄膜厚度增加

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