光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。_半导体芯片制造中级工_全学科试题题库

当前学科：半导体芯片制造中级工

题目：填空题
光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
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