光刻的精度甚高，其尺寸精度可达到0.01～0.005mm是半导体器件和集成电路制造中的关键工艺之一。()_机械工程_全学科试题题库

当前学科：机械工程

题目：未知类型
光刻的精度甚高，其尺寸精度可达到0.01～0.005mm是半导体器件和集成电路制造中的关键工艺之一。()
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