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当前学科：集成电路工艺原理
题目：
判断题
虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词，但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结，取而代之的是离子注入。
A . 正确
B . 错误
答案：
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