光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）_半导体芯片制造中级工_全学科试题题库

当前学科：半导体芯片制造中级工

题目：单选
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
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